Datei:Fully-recessed LOCOS process DE.svg
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aktuell | 12:32, 6. Feb. 2011 | 768 × 600 (18 KB) | Cepheiden | fixed? | |
12:30, 6. Feb. 2011 | 768 × 600 (18 KB) | Cepheiden | fix | ||
12:27, 6. Feb. 2011 | 768 × 600 (18 KB) | Cepheiden | {{Information |Description ={{de|1=Vereinfachtes Schema des Fully-Recessed-LOCOS-Prozess' für die Herstellung von Isolationsstrukturen in der Halbleitertechnik 1. Abscheidung des Schichtstapels (SiO<sub>2</sub>, Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>), fotolito |
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