Benutzer:Cepheiden/Beiträge
Auswahl von Artikeln, an denen ich in größerem Umfang mitgewirkt habe (Änderungen)[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]
Technik[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]
Atomlagenabscheidung
,
Bipolartransistor,
Chemisch-mechanisches Polieren,
Dünnschichttechnik,
Damascene-Prozess, Dual-Damascene-Prozess,
Elektronenstrahllithografie,
Equivalent oxide thickness,
Epitaxialtransistor,
Fingerprint (Spektroskopie),
Foucault-Prisma,
Formgedächtnislegierung,
Fotolithografie (Halbleitertechnik),
Gasphasenzersetzung,
Glan-Thompson-Prisma,
Grabenisolation,
Gridistor,
High-k+Metal-Gate-Technik,
Immersionslithografie
,
Infrarot-Reflexions-Absorptions-Spektroskopie,
Ionenplattieren,
Ionenstrahllithografie,
Kritische Abmessung,
Lift-off-Verfahren,
LOCOS-Prozess,
Mehrfachstrukturierung,
Mesatransistor,
Metall-Oxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor,
Metall-Isolator-Halbleiter-Struktur,
metallorganische chemische Gasphasenabscheidung,
Mikroelektronik,
Neutronenreflektometrie,
Nicolsches Prisma,
Optical proximity correction,
Overlay (Halbleitertechnik),
Prisma (Optik) (inkl. Dispersions-, Reflexions- und Polarisationsprisma),
Röntgenlithografie,
Scatterometrie,
Schaltungstechnik,
Schwarzes Silicium,
Silizium-Gate-Technik,
Sputtern,
Thermische Oxidation von Silizium,
Waferpinzette
Naturwissenschaften[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]
Anodische Oxidation,
Bändermodell,
Berreman-Effekt,
Cauchy-Gleichung,
Cotton-Mouton-Effekt,
Dram (Einheit),
elektrischer Widerstand,
Delisle-Skala,
Fresnel-Arago-Gesetze,
fresnelscher Doppelspiegel,
Gunn-Effekt,
Imbert-Fedorov-Effekt,
Halbleiter,
meckesche Symbole,
Müller-Matrix,
Nitride,
Pentacen,
Silicium,
Störstelle, Störstellenerschöpfung, Störstellenreserve,
Voigt-Effekt
Personen[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]
Dwight W. Berreman,
Julius Blank,
Kurt Drescher,
Victor Grinich,
Jean Hoerni,
Jay Last,
Klaus Lunze,
Eugene Kleiner,
Sheldon Roberts,
John Woollam
Vorlagen[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]
Der Spiegel, Gallica, Google Buch, Literatur, Patent, TabsCSS