Diskussion:Stereolithografie

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Letzter Kommentar: vor 5 Jahren von Nothingserious in Abschnitt Weblink auf enWP
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Warum fehlen die Links zu Patenten, Fachveröffentlichungen usw RMPD Verfahren u.a. http://www.microtec-d.com 1 oder 1 Mio Teile, wenn schon "Technik aus Deutschland" warum das verstecken? Viele Grüße Andrea (nicht signierter Beitrag von 91.33.36.155 (Diskussion) 13:23, 10. Mai 2012 (CEST)) Beantworten

Es handelt sich bei diesem Text teilweise um eine Textspende von Benutzer:Ktesibios von seiner Seite [1] -- fab 10:28, 14. Nov 2003 (CET)

Stereolithographie als Oberbegriff...[Quelltext bearbeiten]

...für das Schichtenweise Aufbauen von Werkstücken?

Das leite ich ab von dem, aus dem griechischen Begriffen zusammengesetztem Wort Stereolithografie. Demnach wären u.A. auch die Verfahren unter Rapid Prototyping:

Stereolithografie-Verfahren und damit Unterpunkte dazu! Was sagt Ihr?--DiplomBastler 10:08, 21. Feb 2005 (CET)

Stereolithografie als Oberbegriff? - NEIN[Quelltext bearbeiten]

Die Stereolithografie (STL) ist eines der generativen Fertigungsverfahren, ebenso die anderen genannten Verfahren. Das STL-Verfahren war in achtziger Jahren des letzten Jahrhunderts das erste und zeitweise weitverbreiteste Verfahren aus dieser Verfahrensgruppe. Die ersten Anlagen kamen von der Firma 3D Systems, die auch heute noch Markführer ist. (nicht signierter Beitrag von Je ho (Diskussion | Beiträge) 15:49, 23. Mär. 2005)

Darstellung die so nicht sein kann: "γραφή" != "graphein"[Quelltext bearbeiten]

Das "ή" wird als "ä" oder lange "e" ausgesprochen. auf keinen fall als "ei" und noch viel weniger als "ein", da es sich um einen Vokal handelt. "γραφή" wird als "grafä" ausgesprochen. Ich vermute, hier wurden zwei Wörter vermischt: "γραφή" ist vmtl. ein Substantiv ("Bild", "Schrift"), während "graphein" ein Infinitiv des zugehörigen Verbs ("schreiben") ist. 141.23.76.128 13:34, 30. Apr. 2012 (CEST)Beantworten

Hiermit erledigt. --Franz 22:24, 12. Feb. 2015 (CET)Beantworten

Stützstrukturen Mikrostereolithographie[Quelltext bearbeiten]

Im Text wird gesagt, dass bei Mikrostereolithographie keine Stützstrukturen notwendig seien. Entspricht das tatsächlich der Wahrheit? Bei Überhängen kann ich mir das kaum vorstellen. Falls es doch der Wahrheit entspricht würde ich eine Begründung im Text begrüßen. --Bobbolous (Diskussion) 19:34, 20. Jul. 2015 (CEST)Beantworten

Vermutlich dominiert hier die Festigkeit (Lineare Ausdehnung hoch 2) des gehärteten Materials über den Gewichtsunterschied (Lineare Ausdehnung hoch 3) zu dem flüssigen Rohmaterial. Für kurze Zeit kann auch gehärtetes Material im flüssigen Rohmaterial schweben. Günstig dafür wäre ein geringer Dichteunterschied zwischen gehärtetem Material und flüssigen Rohmaterial, oder eine Gel-artige Konsistenz oder hohe Viskosität des flüssigen Rohmaterials. Man könnte auch einen UV-Fokus im Inneren des Volumens des flüssigen Rohmaterials sehr schnell wandern lassen. -- Karl Bednarik (Diskussion) 07:37, 23. Jun. 2018 (CEST).Beantworten

Weblink auf enWP[Quelltext bearbeiten]

Warum wurde der Weblink auf enWP entfernt? Was war an ihm falsch? -- Karl Bednarik (Diskussion) 07:11, 23. Jun. 2018 (CEST).Beantworten

Hm, ich hatte irgendwie im Kopf, dass Links auf anderssprachige WPs generell nicht erwünscht sind, kann das aber nun nirgends finden. Entweder du fügst den Link wieder ein, oder ich übersetze heute im Laufe des Tages den enWP Artikel, damit dann eine deutsche Version verlinkt werden kann? Ja ich glaub das mache ich sowieso. Wie ist denn der deutsche Fachbegriff für Continuous Liquid Interface Production? Oder kommt als Lemma einfach "CLIP-Verfahren" in Frage? --Nothingserious (Diskussion) 08:05, 23. Jun. 2018 (CEST)Beantworten